Εφαρμογή Υποστρώματος Νιτριδίου Αλουμινίου
Λόγω της υψηλής θερμικής αγωγιμότητας και της εξαιρετικής ηλεκτρικής μόνωσης, το AlN χρησιμοποιήθηκε στις μικροηλεκτρονικές βιομηχανίες.
Η επιφανειακή οξείδωση συνέβη στον αέρα ακόμη και σε θερμοκρασία δωματίου, ωστόσο, το στρώμα οξειδίου του αλουμινίου μπορεί να προστατεύσει το υλικό έως τους 1370 C. Διατίθενται μέθοδοι επιμετάλλωσης που επιτρέπουν τη χρήση του νιτριδίου του αλουμινίου σε ηλεκτρονικές εφαρμογές παρόμοιες με εκείνες της αλουμίνας και του οξειδίου του βηρυλλίου.
Η σκληρότητα του κεραμικού νιτριδίου αλουμινίου είναι ακόμη υψηλότερη από την αλουμίνα, το παραδοσιακό τεχνικό κεραμικό, καθιστώντας το ιδανικό υλικό για εφαρμογές που απαιτούν καλή αντοχή στη φθορά.
Πλεονέκτημα του AlN Ceramic
* Very high thermal conductivity (>170 W/mK)
* High electrical insulation capacity (>1.1012Ωcm)
* Strength according to the double ring method >320 MPa (διαξονική αντοχή)
* Χαμηλή θερμική διαστολή 4 έως 6x10-6K-1(μεταξύ 20 και 1000 μοιρών)
* Καλή ικανότητα επιμετάλλωσης
